本書以通俗生動的語言、圖文并茂的形式，簡要介紹了集成電路制程。以特征線寬130nm以下爲重，涉及集成電路制作工藝的各個方面，特别是包括短波長光源、步與掃描照相曝光系統、CMP平坦化、雙大馬士革Cu布線、低-k介質材料、SoC與SiP等。不僅便于讀者門，特别是指明問題的關鍵和發展方向。對于與集成電路(IC)制程、材料、設備以及微電子應用相關的科技工作者和工程技術人員，本書具有極爲難得的參考價值，也可以作爲相關專業本科生、研究生用教材和參考書。<br/>
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