本书首先对CVD金刚石薄膜的性质及应用行概述；然后对热丝化学气相法沉积金刚石薄膜的形核、生长过程及规律系统地行研究分析，并对沉积过程中气相化学行诊断分析，讨论添加辅助气体对气相活性基团的影响以及对沉积金刚石薄膜质量和生长速率的影响；*后介绍热丝CVD金刚石薄膜涂层钻头以及微米、纳米复合涂层金刚石薄膜模具。本书适合于高等院校的材料、物理、化学等专业的方向课教学用书，亦可作为相关工程领域尤其是CVD金刚石产业的科研与生产指导书。<br/>【作者】<br/>马志斌，武汉工程大学材料科学与工程学院，院长、教授，1991年毕业于武汉大学物理系；1994年毕业于中国科学院等离子体物理研究所获工学硕士学位；2001年毕业于中国科学院等离子体物理研究所获博士学位。多年来主要从事低温等离子体技术和CVD金刚石膜的制备与应用研究。目前正在主持国家自然科学基金面上项目“高气压微波等离子体中电场的测量与调控及其对单晶金刚石生长的影响”，主持并完成国家自然科学基金面上项目“回旋离子束及其与CVD金刚石膜表面作用机理的研究”，武汉市青年晨光计划项目“硬质合金上化学气相沉积金刚石薄膜附着力的增强研究”，湖北省教育厅项目“ 铜镍合金基体上化学气相沉积金刚石薄膜的界面研究”，和湖北省自然科学基金项目“氮化碳单晶体的合成与表征”等纵横向项目，发表SCI、EI研究论文100余篇，获国家发明专利授权10余项。2006年组织申报省级教学研究项目“等离子体技术在材料科学与技术中的应用”实践教学平台的构建，并获立项；2007年组织申报全国高等学校教学研究中心教学研究项目“适应现代工业的材料类实践教学体系的探索和建立”，并获立项；2010年组织材料物理专业申报湖北省首批“战略性新兴（支柱）产业人才培养计划”实施专业，并获得立项建设。获湖北省高等学校教学成果奖三等奖“依托优势学科培养材料物理专业特色人才的探索与实践”。<br/>
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